Yra daug įvairių purškimo taikinių, kuriems taikomi aukšti grynumo reikalavimai, ir jie taip pat plačiai naudojami pramonėje. Šiandien kalbėsime apie keturių tipų purškiamuosius taikinius, dažniausiai naudojamus keturiose pagrindinėse srityse: didelio grynumo aliuminio taikinius, titano taikinius, tantalo taikinius ir volframo titano taikinius. Jie apima plokščiųjų ekranų, puslaidininkių, saugyklų ir saulės elementų sritis.
Aliuminio taikinys (atsargų grynumas 99,99 proc. - 99.999 proc.)
Didelio grynumo aliuminis ir jo lydiniai yra viena iš plačiai naudojamų laidžių plėvelių medžiagų. VLSI lustų gamybai reikalingas labai didelis purškiamo tikslinio metalo grynumas, paprastai net 99,9995 proc., o plokščiųjų ekranų ir saulės elementų metalo grynumas yra šiek tiek mažesnis.
Titano taikinys (atsargų grynumas 99,99 proc. - 99,999 proc.)
Titanas yra viena iš barjerinių plėvelių medžiagų, dažniausiai naudojamų VLSI lustuose (atitinkama laidaus sluoksnio medžiaga yra aliuminis). Titano taikinys bus naudojamas kartu su titano žiedu išankstinio lusto gamybos procese. Pagrindinė funkcija yra padėti titano taikinių purškimo procesui, kuris daugiausia naudojamas VLSI lustų gamybos srityje.
Tantalo tikslas (atsargų grynumas 99 proc., 99,5 proc., 99,9 proc., 99,995 proc., 99,99 proc., 99,995 proc., 99,999 proc.)
Sparčiai augant plataus vartojimo elektronikos gaminių, tokių kaip išmanieji telefonai ir planšetiniai kompiuteriai, paklausa, labai išaugo aukščiausios klasės lustų paklausa, o tantalas tapo karštais mineraliniais ištekliais. Tačiau dėl tantalo išteklių trūkumo didelio grynumo tantalo taikiniai yra brangūs ir dažniausiai naudojami didelio masto integriniuose grandynuose ir kitose srityse.
Titano volframo taikinys (99,95 proc. grynumo sandėlyje)
Volframo titano lydinys turi mažą elektronų mobilumą, stabilias šilumines mechanines savybes, gerą atsparumą korozijai ir gerą cheminį stabilumą. Pastaraisiais metais volframo titano lydinio purškimo taikinys buvo naudojamas kaip puslaidininkinių lustų tinklelio grandinių kontaktinio sluoksnio medžiaga. Be to, jungiant metalinius puslaidininkinius įtaisus, volframo ir titano taikiniai gali būti naudojami kaip barjeriniai sluoksniai. Jis naudojamas aukštos temperatūros aplinkoje, daugiausia VLSI ir saulės elementams.
